照度计紫外线灯UV-35

来源: 发布时间:2023-11-29

制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺,这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一,许多美国德国品牌光刻机具有特殊的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术,有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场,许多光刻机,采用了LED照明。对准系统共有两套,具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对(光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用)。CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。工件台顾名思义就是放工件的平台,光刻工艺主要的工件就是掩模和基片。以紫外线之力,突破半导体工业的极限。照度计紫外线灯UV-35

半导体领域使用光刻机有5类:G线光刻机,使用高压汞灯作为光源,紫外线波长为436nm,产品分辨率500nm以上;I线光刻机,使用高压汞灯作为光源,紫外线波长为365nm,产品分辨率28nm以上;氟化氪(KrF)光刻机,使用氟化氪准分子激光(DUV)作为光源,紫外线波长为248nm,产品分辨率180nm;氟化氩光刻机,使用氟化氩准分子激光(DUV)作为光源,紫外线波长193nm;EUV光刻机,使用13.5nm极紫外线,产品分辨率,分辨率可达7nm;敝司代理光刻机使用的I线365nm高压汞灯紫外线。FX-803M紫外线灯UNL-12000B超高压汞灯,紫外线灯中强者,为你的工业生产保驾护航。

ORC制作所生产超高压汞灯,英文:super high pressure mercury lamp,点灯时,汞蒸气压力为100~10000KPa,主要发射波长在365nm,395nm,405nm,436nm,累计光量可达数千kJ/mol(52.3kcal/mol)的汞蒸气弧光灯。短弧超高压汞灯是一种装有一对钍钨电极的球形石英玻壳放电灯。玻壳内充少量启动氩气和定量的汞,极间距离0.2~8mm,功率1,000~350,000W,工作时形成“电极稳定型”电弧, 一般采用垂直点灯,强制风冷。短弧超高压汞灯的有效寿命为750~3000h, 。 短弧超高压汞灯是辐射极强的长波紫外光源应用于集成电路光刻制版工艺。

产品化无NOx产生的UV Lamp『智能准分子灯』作为臭氧发生动力(灯+电源)模块.臭氧存在与大气中,起到净化大气作用。大气中的氧气和太阳光中的紫外线反应或者雷的放电现象,自然生成。阳光充裕的海岸或森林,存在程度、制作出清爽的空气。臭氧的氧原子[O]3个结合后产物,化学式是[O3]。臭氧的氧原子比氧气原子多出1个的[O3]状态、余下的氧原子[O]给其它物质,引发返回稳定状态的氧分子现象。利用自然界发生的此性质,积极制作臭氧,进行脱臭,除菌,杀菌。.我们的紫外线灯可提供专业的售前咨询和售后服务,确保客户满意度和产品可靠性。

超高圧水銀Lampは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm~450nmのDeepUV領域に適化した光源ユニットです。リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。光源:250W 超高圧UVランプ,露光エリア:φ135mm,波長領域:230nm~450nm,初期照度:16mW/cm2以上,照度均一度:±5%以内,本体外形寸法(mm):224(W)×521(D)×417(H),電源外形寸法(mm):180(W)×300(D)×360(H).i线步进式光刻机NSR-2005i8用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯,功率:2KW,型号:NLi-2000A-1。EXPOSURE LAMP紫外线灯UNL-12000B

i线步进式光刻机NSR-2005i10用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯,功率2KW,型号:NLi-2001A-1。照度计紫外线灯UV-35

a.接触式曝光(Contact Printing):掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。接触式,根据施加力量的方式不同又分为:软接触,硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住(类似于匀胶机的基片放置方式),掩膜盖在基片上面;2.硬接触 是将基片通过一个气压(氮气),往上顶,使之与掩膜接触;3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气,使之更加好的贴合(想一想把被子抽真空放置的方式)软照度计紫外线灯UV-35